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標題新聞 |
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公告本公司董事會決議股利分派 |
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2024-03-26 |
1. 董事會擬議日期:113/03/26 2. 股利所屬年(季)度:112年 年度 3. 股利所屬期間:112/01/01 至 112/12/31 4. 股東配發內容: (1)盈餘分配之現金股利(元/股):1.50000000 (2)法定盈餘公積發放之現金(元/股):0 (3)資本公積發放之現金(元/股):0 (4)股東配發之現金(股利)總金額(元):37,950,000 (5)盈餘轉增資配股(元/股):0 (6)法定盈餘公積轉增資配股(元/股):0 (7)資本公積轉增資配股(元/股):0 (8)股東配股總股數(股):0 5. 其他應敘明事項: 無 6. 普通股每股面額欄位:新台幣10.0000元
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公告本公司董事會重要決議事項 |
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2024-03-26 |
1.事實發生日:113/03/26 2.公司名稱:龍翩真空科技股份有限公司 3.與公司關係(請輸入本公司或子公司):本公司 4.相互持股比例:不適用 5.發生緣由:本公司113/03/26董事會重要決議如下: (1)通過本公司112年度之營業報告書、個體財務報表及合併財務報表案。 (2)通過本公司112年度盈餘分配案。 (3)通過本公司112年度員工及董事酬勞分配案。 (4)通過檢討本公司董事及經理人薪酬相關事宜案。 (5)通過本公司112年度內部控制制度聲明書案。 (6)通過簽證會計師事務所內部工作調度更換會計師及民國113年度會計師 之獨立性、適任性評估及委任報酬案。 (7)通過安永聯合會計師事務所及其關係企業預計於113年提供之非確信 服務清單。 (8)通過修訂本公司「審計委員會組織規程」及「龍翩組織架構圖」部份 條文案。 (9)通過修訂本公司「董事會議事規範」部份條文案。 (10)通過本公司向銀行申請融資授信案。 (11)通過本公司召開113年股東常會相關事宜。 6.因應措施:不適用 7.其他應敘明事項(若事件發生或決議之主體係屬公開發行以上公司, 本則重大訊息同時符合證券交易法施行細則第7條第9款所定 對股東權益或證券價格有重大影響之事項):無
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3 |
公告本公司董事會決議通過112年度合併財務報告 |
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2024-03-26 |
1.財務報告提報董事會或經董事會決議日期:113/03/26 2.審計委員會通過財務報告日期:113/03/26 3.財務報告報導期間起訖日期(XXX/XX/XX~XXX/XX/XX):112/01/01~112/12/31 4.1月1日累計至本期止營業收入(仟元):362,516 5.1月1日累計至本期止營業毛利(毛損) (仟元):75,460 6.1月1日累計至本期止營業利益(損失) (仟元):24,238 7.1月1日累計至本期止稅前淨利(淨損) (仟元):41,054 8.1月1日累計至本期止本期淨利(淨損) (仟元):32,450 9.1月1日累計至本期止歸屬於母公司業主淨利(損) (仟元):32,450 10.1月1日累計至本期止基本每股盈餘(損失) (元):1.28 11.期末總資產(仟元):830,814 12.期末總負債(仟元):257,500 13.期末歸屬於母公司業主之權益(仟元):573,314 14.其他應敘明事項:無
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公告本公司董事會決議召開113年股東常會相關事宜 |
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2024-03-26 |
1.董事會決議日期:113/03/26 2.股東會召開日期:113/06/27 3.股東會召開地點:台中市梧棲區大通路2號(本公司會議室) 4.股東會召開方式(實體股東會/視訊輔助股東會/視訊股東會, 請擇一輸入):實體股東會 5.召集事由一、報告事項: (1)112年度營業報告案。 (2)審計委員會審查112年度決算表冊報告案。 (3)112年度員工及董事酬勞分配報告案。 (4)修訂本公司「董事會議事規範」部份條文案。 6.召集事由二、承認事項: (1)本公司112年度營業報告書及財務報表案。 (2)本公司112年度盈餘分配案。 7.召集事由三、討論事項:無。 8.召集事由四、選舉事項:無。 9.召集事由五、其他議案:無。 10.召集事由六、臨時動議:無。 11.停止過戶起始日期:113/04/29 12.停止過戶截止日期:113/06/27 13.其他應敘明事項: (一)另依公司法第172條之1第2項規定,公司應於股東常會召開前之 停止股票過戶日前,公告受理股東之提案、受理處所、受理期間 及其他必要事項,其受理期間不得少於十日。擬訂股東提案之 受理期間自113年04月19日起至113年04月29日止,受理處所為 本公司財務部。 (二)本次股東常會不發放紀念品。 (三)本次股東常會委託書統計驗證機構為第一金證券股份有限公司股務代理部。 (四)本次股東會股東得以電子方式行使表決權,行使期間自113年05月28日至 113年06月24日止〈電子投票平台:台灣集中保管結算所股份有限公司, 網址:http://www.stockvote.com.tw〉。
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5 |
公告本公司董事會重要決議事項 |
摘錄資訊觀測 |
2023-12-13 |
1.事實發生日:112/12/13 2.公司名稱:龍翩真空科技股份有限公司 3.與公司關係(請輸入本公司或子公司):本公司 4.相互持股比例:不適用 5.發生緣由:本公司112/12/13董事會重要決議如下: (1)通過本公司111年度經理人員工現金酬勞金額分配案。 (2)通過本公司111年度董事酬勞金額分配案。 (3)通過本公司經理人之112年年終獎金及績效獎金發放計畫案。 (4)通過本公司113年度營運計畫案。 (5)通過本公司113年度內部稽核計畫案。 6.因應措施:不適用。 7.其他應敘明事項(若事件發生或決議之主體係屬公開發行以上公司, 本則重大訊息同時符合證券交易法施行細則第7條第9款所定 對股東權益或證券價格有重大影響之事項):無。
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公告本公司辦理庫藏股註銷減資變更登記完成 |
摘錄資訊觀測 |
2023-07-27 |
1.主管機關核准減資日期:112/07/27 2.辦理資本變更登記完成日期:112/07/27 3.對財務報告之影響(含實收資本額與流通在外股數之差異與對每股淨值之影響): ----------------------------------------------------------- 庫藏股-股份註銷(前) 庫藏股-股份註銷(後) ----------------------------------------------------------- 實收資本額 255,000,000元 253,000,000元 流通在外股數 25,300,000股 25,300,000股 每股淨值 24.0207元 24.0207元 ----------------------------------------------------------- 註:依111年度經會計師查核之財務報告計算淨值。 4.預計換股作業計畫:不適用。 5.其他應敘明事項: (1)本公司於112年07月27日接獲經濟部加工出口區管理處之變更登記核准函 ,特此公告。 (2)本公司本次辦理註銷庫藏股股數為200,000股。
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公告修正本公司111年度年報部份內容 |
摘錄資訊觀測 |
2023-07-18 |
1.事實發生日:112/07/18 2.公司名稱:龍翩真空科技股份有限公司 3.與公司關係(請輸入本公司或子公司):本公司 4.相互持股比例:不適用 5.發生緣由:依櫃買中心指示辦理,修正本公司111年度年報部份內容: (1)更正前後頁次不變P41:新增(二)股東結構-備註。 (2)更正前後頁次不變P42:新增(三)股權分散情形-特別股。 6.因應措施:發佈重大訊息並重新上傳(股東會後修訂本)更正資料至公開資訊觀測站。 7.其他應敘明事項(若事件發生或決議之主體係屬公開發行以上公司, 本則重大訊息同時符合證券交易法施行細則第7條第9款所定 對股東權益或證券價格有重大影響之事項):無。
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公告本公司董事會重要決議事項 |
摘錄資訊觀測 |
2023-06-21 |
1.事實發生日:112/06/21 2.公司名稱:龍翩真空科技股份有限公司 3.與公司關係(請輸入本公司或子公司):本公司 4.相互持股比例:不適用 5.發生緣由:本公司112/06/21董事會重要決議如下: (1)通過本公司簽證會計師事務所內部工作調度更換會計師 及民國112年度會計師之獨立性、適任性評估及委任報酬案。 (2)通過本公司解任本公司現任財會主管案。 (3)通過修訂本公司「龍翩組織架構圖」案。 6.因應措施:不適用 7.其他應敘明事項(若事件發生或決議之主體係屬公開發行以上公司, 本則重大訊息同時符合證券交易法施行細則第7條第9款所定 對股東權益或證券價格有重大影響之事項):無
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公告本公司財務主管、會計主管及代理發言人異動 |
摘錄資訊觀測 |
2023-06-21 |
1.人員變動別(請輸入發言人、代理發言人、重要營運主管 (如:執行長、營運長、行銷長及策略長等)、訴訟及非訴訟代理人、 財務主管、會計主管、公司治理主管、資訊安全長、研發主管 或內部稽核主管):財務主管、會計主管、代理發言人 2.發生變動日期:112/06/21 3.舊任者姓名、級職及簡歷:邱浩哲/財務暨會計主管、代理發言人 4.新任者姓名、級職及簡歷:遺缺待補 5.異動情形(請輸入「辭職」、「職務調整」、「資遣」、 「退休」、「死亡」、「新任」或「解任」):解任 6.異動原因:解任。 7.生效日期:112/06/22 8.其他應敘明事項: (1)公司遵循代理人作業,各項財務會計業務 均由會計主管職務代理人負責,對公司營運無影響。 (2)新任財務暨會計主管及代理發言人待董事會通過後依 相關規定公告。
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BENEQ、龍翩 辦ALD光學鍍膜研討 |
摘錄工商A 20 |
2023-04-21 |
芬蘭BENEQ與台灣真空鍍膜設備大廠-龍翩真空科技於4月20日聯手 舉辦「ALD光學鍍膜研討會」,會中邀集台灣各大光學廠商齊聚一堂 分享國際間前瞻性產品應用與高端製程技術的開發進展,期藉此業界 交流拓展ALD技術與量產設備在台灣光學市場,開拓更多的合作發展 機會。
BENEQ自1984年起開始使用原子層沉積ALD進行世界上首次工業生產 。今日BENEQ已經成為全球領先的ALD設備生產商,提供種類廣泛的技 術產品和研發服務,並致力於將原子層沉積技術投入到各項研究中, 亦通過工業ALD解決方案推動技術發展的大趨勢。
原子層沉積(Atomic Layer Deposition,ALD)係藉由前驅物氣體 與基板表面形成自我侷限反應,進行單層及多層原子薄膜沉積,並具 備大面積、高階梯覆蓋率、高厚度均勻性、低溫製程及原子級膜厚控 制等優點。
BENEQ ADL半導體業務處長謝祖德表示,原子層沉積(ALD)技術如 今備受重視,主要受惠於積體電路工業的奈米製程發展對ALD的需求 增加,其中已有多項關鍵薄膜製程從傳統CVD或PVD方式改由ALD取代 ,而目前除了半導體以外,許多產業及領域皆有元件微型化的趨勢, 近年看到原子層沉積開發更接近產業需求等級的12吋量產型ALD設備 外,在光電領域和生醫材料等領域,例如:照相機模組、車載、自駕 、激光雷達、VR及醫材等,從發展趨勢來看未來幾年將有極佳的應用 機會。
龍翩真空科技董事長楊吉祥表示,龍翩自1991年成立以來即積極於 真空鍍膜機之開發與製造,致力為客戶建構完整的「Turn-key」服務 ,從產品設計、開發、設備製造、生產規劃、操作人員訓練及製程設 計諮詢等完整Total-Solution服務,於光學產業界深耕多年:每每因 應產業發展趨勢之需,與業界共同先衝鋒陷陣並建立濃厚革命情感, 提供該產業更新的技術與相關製程供業界使用,充分發揮產業鏈重要 的環節。
目前龍翩真空營運主軸:真空蒸鍍/濺鍍設備製造、薄膜製程技術 服務、藍芽溫度監控裝置、真空配件、成膜輔耗材銷售、Olympus光 學檢測儀器等總代理;就在西洋情人節2月14日,龍翩與芬蘭BENEQ結 為關係伙伴,從今往後,龍翩將在耕耘多年平台上提供ALD設備服務 及銷售。
BENEQ和龍翩真空今後將合作開發和積極推廣ALD原子層沉積鍍膜技 術,應用於台灣光學市場的高端曲率鏡片;ALD技術為最具挑戰性的 結構提供均勻的批覆薄形鍍膜層,極適合高端光學應用,龍翩真空身 為業界先驅應為產業未來發展及應用全力以赴。
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